کاربر محترم ، برای خرید یا دانلود محصولات ثبت نام کنید.  ورود یــا ثبت نــام سریع در ســایت

فیلتر هـــا

نوع محصول

نماد اعتماد الکترونیکی

این محصول دانلودی است و بلافاصله پس از پرداخت لینک دانلود در اختیار شما قرار می گیرد

روش CVD - لایه نشانی شیمیایی بخار Fundamentals of Chemical Vapor Deposition

دانلود : 18800 تومــان

کد محصول : #2385

فعال در گروه : ترجمه مقاله

Fundamentals of Chemical Vapor Deposition


مبانی لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD)


ABSTRAC


Chemical vapor deposition is a synthesis process in which the chemical constituents react in the vapor phase near or on a heated substrate to form a solid deposit. The CVD technology combines several scientific and engineering disciplines including thermody- namics, plasma physics, kinetics, fluid dynamics, and of course chemistry. In this chapter, the fundamental aspects of these disci-plines and their relationship will be examined as they relate to CVD.


 جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .



چکیده


لایه نشانی شیمایی بخار یک فرایند سنتز است که در آن، اجزای شیمیایی در فاز بخار، نزدیک یه یا روی یک زیرلایه گرمایافته واکنش می دهند تا یک لایه جامد تشکیل دهند. فناوری CVD برخی اصول علمی و مهندسی شامل ترمودینامیک، فیزیک پلاسما، سینتیک، دینامیک سیالات و البته شیمی را ترکیب می کند. در این فصل، جنبه های مبنایی این اصول و رابطه آنها تا جایی که به CVD مربوط باشد بررسی خواهد شد.


 جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.


پرداخت انلاین

تعداد صفحات مقاله لاتین 32
تعداس صفحات ترجمه فارسی 24
قالب بندی word ( قابل ویرایش )
حجم 1.57MB

محصولات مشـــابه

ارســـال نظـرات

لطفا برای ارسال نظرات خود برای این محصول فرم زیر را کامل کنید .

Scroll