لایه نشانی شیمایی بخار
Fundamentals of Chemical Vapor Deposition
مبانی لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD)
ABSTRACT
Chemical vapor deposition is a synthesis process in which the chemical constituents react in the vapor phase near or on a heated substrate to form a solid deposit. The CVD technology combines several scientific and engineering disciplines including thermody- namics, plasma physics, kinetics, fluid dynamics, and of course chemistry. In this chapter, the fundamental aspects of these disci-plines and their relationship will be examined as they relate to CVD.
جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .
چکیده
لایه نشانی شیمایی بخار یک فرایند سنتز است که در آن، اجزای شیمیایی در فاز بخار، نزدیک یه یا روی یک زیرلایه گرمایافته واکنش می دهند تا یک لایه جامد تشکیل دهند. فناوری CVD برخی اصول علمی و مهندسی شامل ترمودینامیک، فیزیک پلاسما، سینتیک، دینامیک سیالات و البته شیمی را ترکیب می کند. در این فصل، جنبه های مبنایی این اصول و رابطه آنها تا جایی که به CVD مربوط باشد بررسی خواهد شد.
جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.
محصولات مرتبط
سیلیس و کوارتز Quartz and Silicas
Quartz and Silicas سیلیس و کوارتز ABSTRACT Silica is the most ubiquitous mineral in the earth’s crust, existing in a…
مشخصه یابی ساختار بلوری نانوپودر آسیاکاری گلوله ای شده Ni-Zn-ferrite با استفاده از روش ریتولد
نانوپودر Characterization of crystalline structure of ball-milled nano-Ni–Zn-ferrite by Rietveld method مشخصه یابی ساختار بلوری نانوپودر آسیاکاری گلوله ای شده…
رشد ورقه های گرافن روی نانوسیم های سیلیکا با دانسیته بالا
Catalyst-free approach for growth of graphene sheets on high-density silica nanowires by CVD روش بدون کاتالیزور برای رشد ورقه های گرافن…
جوشکاری حالت جامد آلیاژ برنج و فولاد به کمک قوس پلاسما
Solid-state bonding of alloy-designed Cu–Zn brass and steel associated with phase transformation by spark plasma sintering جوشکاری حالت جامد آلیاژ…
تنها اشخاصی که این محصول را خریداری کرده اند و وارد سایت شده اند می توانند در مورد این محصول بازبینی ارسال کنند.