تولید فیلم های نازک تیتانیا آناتاز رسوب یافته توسط گرماکافت پاششی آئروسل از diisopropoxide تیتانیوم
TiO۲ anatase thin films deposited by spray pyrolysis of an aerosol of titanium diisopropoxide
چکیده
فیلم های نازک تیتانیا بر سیلیکون کریستالی (۱۰۰) و زیرلایه های کوارتز ذوب شده توسط گرماکافت اسپری یک آئروسل رسوب یافته اند، به صورت آلتراسونیک ایجاد شدند، از diisopropoxide تیتانیوم. تکامل تبلور توسط پراش اشعه ایکس (XRD) مورد مطالعه قرارگرفت، نیروی اتمی (AFM)، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، بازتاب و انتقال اسپکتروسکوپی، نشان میدهد که فرآیند رسوب دهی تقریبا نزدیک به روش کلاسیک رسوب بخار شیمیایی (CVD) است، فیلم هایی با سطح صاف و خواص کریستالی خوب تولید میکند. در دماهای رسوب دهی زیر ۴۰۰ درجه سانتی گراد، فیلم ها در فاز آمورف با یک سطح صاف (زبری تقریبا ۵/۰ نانومتر) رشد می کنند؛ در حالی که برای مقادیر مساوی یا بیشتر از این دما، فیلم ها یک فاز بلوری مطابق با فاز تیتانیوم آناتاز توسعه دادند و زبری سطح افزایش یافته است. بعد از بازپخت در دمای ۷۵۰ درجه سانتی گراد، نمونه های رسوب یافته بر Si، انتقال به فاز روتیل گرا در جهت (۱۱۰) را نشان می دهند، درحالی که برای آن دسته از فیلم های رسوب یافته بر کوارتز ذوب شده هیچ انتقال فازی مشاهده نشده است.
جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.
ABSTRACT
Titanium dioxide thin films were deposited on crystalline silicon (100) and fused quartz substrates by spray pyrolysis (SP) of an aerosol, generated ultrasonically, of titanium diisopropoxide. The evolution of the crystallization, studied by X-ray diffraction (XRD), atomic force (AFM) and scanning electron microscopy (SEM), reflection and transmission spectroscopies, shows that the deposition process is nearly close to the classical chemical vapor deposition (CVD) technique, producing films with smooth surface and good crystalline properties. At deposition temperatures below 400 8C, the films grow in amorphous phase with a flat surface (roughness~0.5 nm); while for equal or higher values to this temperature, the films develop a crystalline phase corresponding to the TiO۲ anatase phase and the surface roughness is increased. After annealing at 750 8C, the samples deposited on Si show a transition to the rutile phase oriented in (111) direction, while for those films deposited on fused quartz no phase transition is observed.
محصولات مرتبط
اثرات آنتی باکتریال فلزات Antibacterial effects of metals
اثرات آنتی باکتریال فلزات Antibacterial effects of metals اثرات آنتی باکتریال فلزات ABSTRACT In this chapter, the antibacterial effects of…
ارزیابی عمق ترک با استفاده از تکنیک های جریان گردابی
Evaluation of crack depth using eddy current techniques with GMR-based probes ارزیابی عمق ترک با استفاده از تکنیک های جریان…
اثر گرافیت بر اکسیداسیون ZrB2-SiC در هوا
The effect of a graphite addition on oxidation of ZrB2–SiC in air at 1500 ◦C اثر گرافیت بر اکسیداسیون ZrB2-SiC…
اثر پارامترهای جوشکاری ترمیمی بر عمر قالب های دایکست Die casting moulds
Effect of repair-welding parameters on life time of die casting moulds اثر پارامترهای جوشکاری ترمیمی بر عمر مفید قالب های…
تنها اشخاصی که این محصول را خریداری کرده اند و وارد سایت شده اند می توانند در مورد این محصول بازبینی ارسال کنند.