Fundamentals of Chemical Vapor Deposition
مبانی رسوب دهی شیمیایی بخار (CVD)
ABSTRAC
Chemical vapor deposition is a synthesis process in which the chemical constituents react in the vapor phase near or on a heated substrate to form a solid deposit. The CVD technology combines several scientific and engineering disciplines including thermody- namics, plasma physics, kinetics, fluid dynamics, and of course chemistry. In this chapter, the fundamental aspects of these disci-plines and their relationship will be examined as they relate to CVD.
جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .
چکیده
رسوب دهی شیمیایی بخار یک فرایند سنتز است که در آن، اجزای شیمیایی در فاز بخار، نزدیک یه یا روی یک زیرلایه گرمایافته واکنش می دهند تا یک لایه جامد تشکیل دهند. فناوری CVD برخی اصول علمی و مهندسی شامل ترمودینامیک، فیزیک پلاسما، سینتیک، دینامیک سیالات و البته شیمی را ترکیب می کند. در این فصل، جنبه های مبنایی این اصول و رابطه آنها تا جایی که به CVD مربوط باشد بررسی خواهد شد.
جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.
محصولات مرتبط
مواد کامپوزیتی پیزوالکتریک Piezoelectric Composite Materials
Piezoelectric Composite Materials مواد کامپوزیتی پیزوالکتریک ABSTRACT A piezoelectric Composite is a combination of a piezoelectric ceramic and/or polymer and…
کارسختی Work Hardening
Work Hardening کارسختی ABSTRACT Work hardening is one of the characteristic properties of most metallic alloys; it isalso probably the…
روش های بازرسی در محل خط لوله برای تعیین خوردگی In-line inspection (ILI) methods for detecting corrosion
In-line inspection (ILI) methods for detecting corrosion in underground pipelines روشهای بازرسی در خط لوله برای تعیین خوردگی در خط…
ساخت پودرهای فلزی توسط الکترولیزForming metal powders by electrolysis
Forming metal powders by electrolysis ساخت پودرهای فلزی توسط الکترولیز ABSTRACT Fossil fuels will eventually be replaced by renewables. Currently, the…
تنها اشخاصی که این محصول را خریداری کرده اند و وارد سایت شده اند می توانند در مورد این محصول بازبینی ارسال کنند.