Microstructure and electrochemical behavior of Ti-coated

Zr55Al10Ni5Cu30 bulk metallic glass

ریزساختار و رفتار الکتروشیمیایی فلز شیشه ای Zr55Al10Ni5Cu30

با پوشش تیتانیم

ABSTRACT

In this study, pure Ti was coated on Zr55Al10Ni5Cu30 bulk metallic glass (BMG) using a physical vapour deposition (PVD) technique with magnetron sputtering. Microstructures of Ti coating, BMG substrate and interface were investigated by conventional and high-resolution transmission electron microscopy (TEM and HREM). The electrochemical behavior of Ti-coated Zr55Al10Ni5Cu30 BMG was studied by potentiodynamic polarization curves and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) in Hanks’ solution. Scanning electron microscopy (SEM) was used to characterize the surface morphology of the coating after electrochemical testing. HRTEM observation reveals that the sputtering Ti coating consists of α-Ti nano-scale particles with the size about 10 nm.

The polarization curves revealed that the open-circuit potential shifted to a more positive potential and the passive current density was lower after Ti coating was applied in comparison with that of the monolithic Zr55Al10Ni5Cu30 BMG. Electrochemical impedance spectroscopy (EIS) measurements showed that the Bode plots of Ti-coated Zr55Al10Ni5Cu30 BMG presented one time constant for 1 h and 12 h immersion and two time constants after 24 h immersion. The good bonding condition between Ti coating and Zr55Al10Ni5Cu30 BMG substrate may be responsible for the high corrosion resistance of Ti-coated Zr55Al10Ni5Cu30 BMG.

 جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .

چکیده

در این تحقیق تیتانیم خالص بر روی فلز شیشه ای (Zr55Al10Ni5Cu30 (BMG با استفاده از روش رسوب بخار فیزیکی (PVD) با پاشش مگنترونی پوشش داده شد. ریزساختارهای پوشش تیتانیم، زیرلایه BMG و فصل مشترک، توسط تکنیک میکروسکوپ الکترونی عبوری متداول و میکروسکوپ الکترونی عبوری با قدرت تفکیک بالا (TEM و HREM) مورد بررسی قرار گرفت.رفتار الکتروشیمیایی فلز شیشه ای Zr55Al10Ni5Cu30 پوشش یافته با تیتانیم، توسط منحنی های پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی و طیف سنج امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) در محلول هنکس (Hanks) مورد بررسی و مطالعه قرار گرفت. میکروسکوپ الکترونی روبشی ( SEM ) به منظور مشخصه یابی ریزساختار سطح پوشش بعد از تست الکتروشیمیایی مورد استفاده قرار گرفت. مشاهدات HRTEM نشان می دهد که پوشش تیتانیم حاصل از فرایند پاشش متشکل از نانوذرات α-Ti با اندازه تقریباً nm 10 است.

منحنی های پلاریزاسیون نشان داد که پتانسیل مدار باز به پتانسیل مثبت تری شیفت پیدا کرد و دانسیته جریان پسیو بعد از پوشش دهی با تیتانیم در مقایسه با فلز شیشه ای منولیتیک Zr55Al10Ni5Cu30 پایین تر بود. اندازه گیری های طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) نشان داد که منحنی های Bode فلز شیشه ای Zr55Al10Ni5Cu30 یکبار برای h1 و h 12 غوطه وری روند ثابت نشان داد و دو بار بعد از غوطه وری به مدت h24 روند ثابت نشان داد. احتمالاً شرایط پیوندی خوب بین پوشش تیتانیم و زیرلایه فلز شیشه ای Zr55Al10Ni5Cu30 ، باعث مقاومت خوردگی بالای فلز شیشه ای Zr55Al10Ni5Cu30 پوشش یافته با تیتانیم می باشد.

 جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.