Influence of pH onpropertiesof ZnS thin films deposited on SiO2 substratebychemicalbathdeposition

اثر pH بر خواص فیلم های نازک ZnS لایه نشانی شده روی زیرلایه SiO2 به روش لایه نشانی حمام شیمیایی

ABSTRACT

This work focuses on the study of zinc sulfide (ZnS) thin films prepared by chemical bath deposition. The effect of the pH ranging from 10.0 to 10.75 on quality of ZnS thin films on SiO2 substrate is investigated. The effect of pH on the surface showed that the variation of pH has a significant effect on the morphology of the ZnS thin lms. The sample with pH value of 10.50 was uniform, free of agglomerates Chemical bath deposition with band gap energy about 3.67 eV. The resistivity of ZnS thin films on SiO2 substrate with different pH value were about 107Ω cm. 

 جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .

چکیده

این پژوهش بر مطالعه فیلم های نازک ZnS تولید شده توسط روش لایه نشانی حمام شیمیایی متمرکز شده است. اثر pH متغیر از ۱۰ تا ۷۵/۱۰ بر کیفیت فیلم های نازک ZnS روی زیرلایه SiO2بررسی می شود. اثر pH بر سطح نشان داد که تغییرات pH اثر محسوسی بر مورفولوژی فیلم های نازک ZnS دارد. نمونه با مقدار pH معادل ۵/۱۰ یکنواخت، بدون کلوخه و با انرژی شکاف باند تقریبی eV 67/3 بود. ضریب مقاومت فیلم های نازک ZnS روی زیرلایه SiO2 با مقدار pH مختلف تقریبا  Ω cm 107 بود.

 جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.