لایه نشانی شیمایی بخار
Fundamentals of Chemical Vapor Deposition
مبانی لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD)
ABSTRACT
Chemical vapor deposition is a synthesis process in which the chemical constituents react in the vapor phase near or on a heated substrate to form a solid deposit. The CVD technology combines several scientific and engineering disciplines including thermody- namics, plasma physics, kinetics, fluid dynamics, and of course chemistry. In this chapter, the fundamental aspects of these disci-plines and their relationship will be examined as they relate to CVD.
جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .
چکیده
لایه نشانی شیمایی بخار یک فرایند سنتز است که در آن، اجزای شیمیایی در فاز بخار، نزدیک یه یا روی یک زیرلایه گرمایافته واکنش می دهند تا یک لایه جامد تشکیل دهند. فناوری CVD برخی اصول علمی و مهندسی شامل ترمودینامیک، فیزیک پلاسما، سینتیک، دینامیک سیالات و البته شیمی را ترکیب می کند. در این فصل، جنبه های مبنایی این اصول و رابطه آنها تا جایی که به CVD مربوط باشد بررسی خواهد شد.
جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.
محصولات مرتبط
سیلیس و کوارتز Quartz and Silicas
Quartz and Silicas سیلیس و کوارتز ABSTRACT Silica is the most ubiquitous mineral in the earth’s crust, existing in a…
نقایص جوشکاری Welding Defects
Welding Defects نقایص جوشکاری ABSTRACT Melting rate (resulting from selected welding parameters) and welding speed define the heat input. As it…
کارسختی Work Hardening
Work Hardening کارسختی ABSTRACT Work hardening is one of the characteristic properties of most metallic alloys; it isalso probably the…
رفتار سینترینگ و خواص دی الکتریکی سرامیک ها Sintering behavior and dielectric properties of BaTiO3 ceramics
Sintering behavior and dielectric properties of BaTiO3 ceramics with glass addition for internal capacitor of LTCC رفتار سینترینگ و خواص دی…
تنها اشخاصی که این محصول را خریداری کرده اند و وارد سایت شده اند می توانند در مورد این محصول بازبینی ارسال کنند.