لایه نشانی شیمایی بخار
Fundamentals of Chemical Vapor Deposition
مبانی لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD)
ABSTRACT
Chemical vapor deposition is a synthesis process in which the chemical constituents react in the vapor phase near or on a heated substrate to form a solid deposit. The CVD technology combines several scientific and engineering disciplines including thermody- namics, plasma physics, kinetics, fluid dynamics, and of course chemistry. In this chapter, the fundamental aspects of these disci-plines and their relationship will be examined as they relate to CVD.
جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .
چکیده
لایه نشانی شیمایی بخار یک فرایند سنتز است که در آن، اجزای شیمیایی در فاز بخار، نزدیک یه یا روی یک زیرلایه گرمایافته واکنش می دهند تا یک لایه جامد تشکیل دهند. فناوری CVD برخی اصول علمی و مهندسی شامل ترمودینامیک، فیزیک پلاسما، سینتیک، دینامیک سیالات و البته شیمی را ترکیب می کند. در این فصل، جنبه های مبنایی این اصول و رابطه آنها تا جایی که به CVD مربوط باشد بررسی خواهد شد.
جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.
محصولات مرتبط
سنتز و مشخصه یابی نانو کامپوزیت اکسید گرافن تیتانیا
فایل ورد و پی دی اف ۱۲ صفحه ای ترجمه مقاله مربوط به سال ۲۰۱۷ به همراه فایل پاورپوینت ارائه مقاله ۲۶ اسلایدی.
فایل های ترجمه شده حاوی فرمول و شکل بوده و نیازی به مراجعه به مقاله اصلی نیست.
رشد ورقه های گرافن روی نانوسیم های سیلیکا با دانسیته بالا
Catalyst-free approach for growth of graphene sheets on high-density silica nanowires by CVD روش بدون کاتالیزور برای رشد ورقه های گرافن…
خزش در فلزات آمورف (شیشه فلزات) Creep in amorphous metals
Creep in amorphous metals خزش در فلزات آمورف (شیشه فلزات) ABSTRACT This paper reviews the work on creep behavior of…
مدلهای چند مقیاسی از کامپوزیتهای زمینه سرامیکی بافته شده
Multiscale model of woven ceramic matrix composites considering manufacturing induced damage مدلهای چند مقیاسی از کامپوزیتهای زمینه سرامیکی بافته شده با…
تنها اشخاصی که این محصول را خریداری کرده اند و وارد سایت شده اند می توانند در مورد این محصول بازبینی ارسال کنند.