لایه نشانی شیمایی بخار
Fundamentals of Chemical Vapor Deposition
مبانی لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD)
ABSTRACT
Chemical vapor deposition is a synthesis process in which the chemical constituents react in the vapor phase near or on a heated substrate to form a solid deposit. The CVD technology combines several scientific and engineering disciplines including thermody- namics, plasma physics, kinetics, fluid dynamics, and of course chemistry. In this chapter, the fundamental aspects of these disci-plines and their relationship will be examined as they relate to CVD.
جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .
چکیده
لایه نشانی شیمایی بخار یک فرایند سنتز است که در آن، اجزای شیمیایی در فاز بخار، نزدیک یه یا روی یک زیرلایه گرمایافته واکنش می دهند تا یک لایه جامد تشکیل دهند. فناوری CVD برخی اصول علمی و مهندسی شامل ترمودینامیک، فیزیک پلاسما، سینتیک، دینامیک سیالات و البته شیمی را ترکیب می کند. در این فصل، جنبه های مبنایی این اصول و رابطه آنها تا جایی که به CVD مربوط باشد بررسی خواهد شد.
جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.
دوره های مرتبط
اطلس عیوب ریخته گری
اطلس عیوب ریخته گری عیوب ریخته گری از گذشته در قطعات باعث بحران بوده اند و مهم ترین وظیفه ریخته گران…
عملیات حرارتی فصل مشترک اتصال در جوشکاری انفجاری فولاد زنگ نزن/مس
Effect of heat treatment on bonding interface in explosive welded copper/stainless steel اثر عملیات حرارتی روی فصل مشترک اتصال در جوشکاری…
سنتز پودر ZrB2 بوسیله احیا حرارتی بور ZrB2 Powders Synthesis by Borothermal Reduction
ZrB2 Powders Synthesis by Borothermal Reduction سنتز پودر ZrB2بوسیله احیا حرارتی بور ABSTRACT High-purity zirconium diboride (ZrB2) powders with submicrometer…
اثر پارامترهای جوشکاری ترمیمی بر عمر قالب های دایکست Die casting moulds
Effect of repair-welding parameters on life time of die casting moulds اثر پارامترهای جوشکاری ترمیمی بر عمر مفید قالب های…
تنها اشخاصی که این محصول را خریداری کرده اند و وارد سایت شده اند می توانند در مورد این محصول بازبینی ارسال کنند.