پوشش ها و فیلم های نانوکریستال رسوب یافته به صورت الکتریکی (الکترورسوبی)

پوشش ها و فیلم های نانوکریستال رسوب یافته به صورت الکتریکی (الکترورسوبی)

Electrodeposited Nanocrystalline Films and Coatings

چکیده

کریستاله شدن الکتریکی، مرحله ای مهم از رسوب دهی الکتریکی هر ماده ای می باشد، که در آن، اتم های – ad جذب شده بر روی سطح، جوانه ی کریستالی (بلورین) را تحت شرایط مطلوب الکترو شیمیایی، تشکیل می دهند. با فراهم شدن نیروی محرکه، کریستاله شدن الکتریکی، منجر به تشکیل رسوبات نانو دانه، یا رسوبات نانوکریستالی می گردد. دو روش اصلی برای حصول رسوبات الکتریکی نانو دانه (دارای دانه های با ابعاد نانو)، رسوب دهی الکتریکی جریان مستقیم با استفاده از افزودنی های اصلاح کننده ی دانه و رسوب دهی الکتریکی پالسی می باشد. ما، در این فصل، بر روی پوشش الکترورسوبی و رسوب دهی الکتریکی (الکترو رسوب) پالسی تأکید داریم؛ بنابراین، اصول و ویژگی های مهم، بحث خواهند شد. فیلم های نانوکریستال Ni، که توسط تکنیک های مستقیم و پالسی رسوب دهی الکتریکی کرده اند، مقایسه خواهند شد.

جهت دانلود ترجمه تخصصی و فارسی این مقاله می توانید وجه آنرا پرداخت نموده و بلافاصله دریافت نمایید.

ABSTRACT

Abstract Electrocrystallisation is a major stage of electrodeposition of any materials in which ad-atoms adsorbed on the surface form crystalline nuclei under favoured electrochemical conditions. Provided that the driving force applied, the electrocrystallisation leads to the formation of nano-grained deposits, or nanocrystalline deposits. Two major approaches are known to obtain nanograin electrodeposits direct current electrodeposition using grain refining additives and pulse electrodeposition. We emphasize on the pulse electrodeposition in this chapter, thus, principles and important particulars will be discussed. Ni nanocrystalline films electrodeposited by direct, and pulse techniques will be compared.